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第277章 arf光刻（第2页）

设备半敞开，内部密密麻麻的线路，连接着外行人完全看不懂的设备。

至少常乐、曾熙看不懂。

“老板，这就是我们研发的第四代步进式投影式光刻机……”何融明介绍道：

“它采用193纳米arf氟化氩准分子激光光源，可以将工艺制程推进到65纳米。”

“这一代光刻机已经基本满足大部分半导体电子产品的需求。”

“真正意义上的国产自主？”常乐确认一遍。

“对！这台设备的10万多个零部件，哪怕是一颗螺丝钉都是国内厂商提供……

“性能经过华红半导体验证，与ASML相差无几。”何融明斩钉截铁地。

“能够这么快自主研发成功，还是要归功于母公司的资金保障。”

“因为资金保障充分，配套企业的研发积极性非常高，供应的产品性能和关键指标不断提升，目前已基本达到国际一流水准。”

“核心组建方面，双工作台由华卓精科提供，光源由科益虹源提供，曝光系统由国科提供，国望光学供应了物镜系统，上光所供应了光栅系统……”

“配套设施方面，南大光电供应光刻胶，华特气体供应光刻气体，华润微供应光掩膜版，东方晶源供应缺陷检测系统，芯源微供应涂胶显影……”

何融明介绍的这些鼎鼎大名的企业，因为乐达投资的介入，较前世，已经提前数年成立并扬帆起航。

各类顶级研发工程师纷纷加盟，积极对接和自发成为沪微电子的上下游配套企业，接受其研发安排和调度。

钱能聚人心。

听完何融明的介绍，常乐不明觉厉，高兴地说：

“老何，辛苦了。”

“阶段性目标的实现，比我想象中要来得早一些……”

“我原来计划可能要10年左右才能突破。”

“正常情况下，是这样。”何融明说：

“老板，不瞒您说，我们原本也认为要花费较长一段时间。”

“只是，一年多以前成功研发krf准分子光刻机后，我们发现研发进度、研发效率在不断提升，试错成本一降再降。”

“尤其是，华卓精科的双工件台，据他们说，几乎每一步都踏在正确的轨道上。”

梁青松接着这个话题继续说：

“老板，华红的研发也很顺利。”

“接手沪微电子的光刻机后，在验证过程中，65纳米SOC芯片一次流片成功率高达90%……”

“节省了大量的研发时间和成本，让研发人员积极性大为提高。”

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听完介绍，常乐笑道：

“看来，老天爷都看不下去了，开始垂怜我们了，让我们尽量少走一些弯路。”

曾熙说：“这就是天道酬勤。”

在场的人都笑了起来。

何融明说：“是啊，天道酬勤。DUV光刻机研发成功，给足了我们信心。只要坚持不懈，就一定可以抹平代差。”

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